6 月 29 日，全球最大规模、最具影响力的半导体盛会 ——SEMICON China 2023 在上海精彩揭幕。活动现场，江苏乐天堂纳米科技股份有限公司（股票代码 688147 ，简称 “ 乐天堂纳米 ” ）携 2 大重磅新品亮相，正式发布了公司自主研发的第一代 iTronix® 系列 CVD 薄膜沉积设备。这标志着乐天堂纳米在半导体薄膜沉积领域取得又一新突破，也是公司多元化布局激活增长新动能的关键一步。

iTronix ^® PE 系列等离子体增强化学气相沉积镀膜系统 ，可沉积相应不同种类薄膜，可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域的芯片制造。同时，该新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。

iTronix ^® LP 系列低压化学气相沉积镀膜系统 ，采用特别设计的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑芯片、 DRAM 芯片、 NAND 芯片等领域具有广泛应用，可满足 SiGe 、 p-Si 、 doped a-Si 、 SiO ₂ 、 SiN 等薄膜沉积工艺的开发与应用需求。

作为国内原子层沉积（ ALD ）技术的龙头企业 ，乐天堂纳米深耕高端薄膜沉积设备领域多年， ALD 产品营收规模方面位居国内同类企业第一，多款半导体 ALD 设备覆盖逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等细分应用领域，关键工艺指标已达到国际先进水平。

创新驱动，引领未来。 乐天堂纳米此次推出的 iTronix ^® 系列 CVD 薄膜沉积设备，是公司创新之路的又一里程碑，大大丰富了产品矩阵，奠定了公司以 ALD 技术为核心， CVD 等多种真空薄膜技术梯度发展的战略定位。目前，乐天堂纳米 iTronix ^® 系列 CVD 薄膜沉积设备已获得客户订单，设备验证进展顺利。未来，乐天堂纳米将为客户提供更多选择、更卓越的定制化解决方案，在薄膜沉积设备领域持续发力。