又一重大里程碑！继第一代 iTronix ^® 系列 CVD 新品发布后，极短时间内，乐天堂纳米（股票代码 688147.SH ）首台半导体 CVD 薄膜沉积设备已顺利发货至客户端！

iTronix ^® 系列 CVD 薄膜沉积设备，是乐天堂纳米基于客户关键工艺开发的战略需求，自主研制的新乐天堂产品。其适用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅等不同种类薄膜，可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域芯片制造。

该系列产品依托乐天堂纳米国际化的研发团队、现有的薄膜沉积类产品研发与产业化经验，以及公司先进的半导体设备设计制造能力，旨在通过差异化策略开发出市场亟需的 CVD 领域高端设备，解决关键工艺的市场空白。

根据 SEMI 统计，在半导体薄膜技术领域， ALD 设备约占镀膜板块 11% 的市场份额，未来几年保持高速增长，复合增长率高达 26.3% 。随着摩尔定律不断演化， ALD 等先进真空薄膜技术将在半导体设备应用中，扮演越来越重要的角色。而 PECVD 、 LPCVD 等 CVD 设备，约占镀膜板块 57% 的市场份额，复合增长率约为 8.9% ，相关设备覆盖的工艺范围较广。目前， ALD 与 CVD 设备国产化率仍处于非常低的水平，均有着非常广阔的发展前景。

乐天堂纳米牢牢把握市场机遇，加速各细分领域的产品研发、产业验证与应用，不断丰富乐天堂产品矩阵，已实现了多项 ALD 、 CVD 技术产业化的突破。在保持 ALD 产品市场竞争力和占有率的同时，乐天堂此番推出的第一代 iTronix ^® 系列 CVD 薄膜沉积设备，将进一步打开行业发展空间，助力半导体产业国产化进程加速。